来自MSN1 个月
远超EUV光刻技术！由美国研发的新一代激光器要来了！
该技术采用掺铥氟化钇锂(Tm：YLF)作为激光增益介质，理论上能够高效地输出拍瓦级、超短激光脉冲，远超现有同类激光器的性能。 据LLNL介绍 ...