美国劳伦斯利弗摩国家实验室（LLNL）正在研发拍瓦 ...

1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳（CO2）激光器的 10 ...

近日，芯片制造领域传来重大消息：Rapidus开始安装ASML EUV光刻机，成为首家接收EUV光刻设备的日本半导体公司。这一举措无疑在全球芯片产业中掀起了波澜。 Rapidus安装首台ASML EUV光刻机 ...

据劳伦斯利弗莫尔国家实验室的研究团队介绍，相比现有EUV光刻系统所采用的CO2激光器，BAT 激光器可以将 EUV能源效率提高约 10 倍。这可能会助力未来“beyond EUV”光刻系统能够生产更小、更强大、制造速度更快、耗电量更少的芯片。

柯恩指出，EUV曝光机堪称现代工程奇迹，它有两点令人印象深刻：一是 ASML与德国光学公司蔡司合作研发的镜片，若将镜片放大到与整个德国同等大小，整个镜面的误差不会超过1公厘；二是EUV的精准度之高，相当于从房屋发射雷射光束，并在月球上打乒乓球。

之前ASML还曾对自家的2纳米EUV光刻机信心满满，但是随着市场逐渐明朗，如今它正陷入窘境，那就是第一代EUV光刻机和最新的2纳米EUV光刻机都面临无人购买的境况，而对EUV光刻机有强烈需求的中国又不许卖。 ASML在2024年量产2纳米EUV光刻机的时候，曾以为三大客户Intel、三星和台积电将会迅速展开争夺，刚开始的时候确实也是如此，甚至美国还强行要求ASML优先将2024年量产的10台2纳米 ...

近日据芯智讯报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。 EUV光刻机是制造 ...

这两个预测之间的主要区别在于它们是否反映了生成式 AI 的全球式繁荣，以及它们是否考虑了2023-2024年的半导体衰退。自 OpenAI 于 2022 年 11 月 30 日发布 ChatGPT 以来，基于 CMD 2022 的预测并未考虑生成式 ...

美国研发新型激光技术。美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发了一种名为大孔径铥（BAT）激光器的技术，旨在为极紫外（EUV）光刻技术的进一步发展奠定基础。这种新型激光器的效率据称是目前ASML ...

荷兰政府周三表示，将从4月1日起扩大对先进半导体设备的出口管制。晶片制造设备供应商艾司摩尔 (ASML)说，预计不会影响公司业务。 在美国的管制中国出口压力下，荷兰在2023年首次导入半导体设备出口的国家许可证要求，随后数次扩大该要求范围。

该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳（CO2）激光器的 10 倍，并有望在多年后取代光刻系统中的 CO2 激光器。 过去数十年来 ...

最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得 ASML 的 EUV 光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。然而，他随后指出，只需要一家中国公司成功开发出国产EUV光刻机，那么“芯片战争就会结束”。