美国劳伦斯利弗摩国家实验室（LLNL）正在研发拍瓦 ...

众所周知，ASML一向对自己手中的光刻设备很有信心。这是缘由在光刻机市场上ASML占据了绝对领先的地位，尤其是在尖端的EUV光刻机上，ASML的步伐比其余的光刻厂商都要快很多。 所以，在High-NA ...

1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳（CO2）激光器的 10 ...

近日，芯片制造领域传来重大消息：Rapidus开始安装ASML EUV光刻机，成为首家接收EUV光刻设备的日本半导体公司。这一举措无疑在全球芯片产业中掀起了波澜。 Rapidus安装首台ASML EUV光刻机 ...

据劳伦斯利弗莫尔国家实验室的研究团队介绍，相比现有EUV光刻系统所采用的CO2激光器，BAT 激光器可以将 EUV能源效率提高约 10 倍。这可能会助力未来“beyond EUV”光刻系统能够生产更小、更强大、制造速度更快、耗电量更少的芯片。

在半导体制造行业，DUV（深紫外）光刻机可以用于制造7nm及以上工艺的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，而ASML则凭借着对EUV光刻机和浸润式DUV光刻机的垄断，掌控着全球几乎所有晶圆厂的芯片制造命脉。 2024年4月，克里斯托夫·富凯（Christophe ...

近日据芯智讯报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。 EUV光刻机是制造 ...

柯恩指出，EUV曝光机堪称现代工程奇迹，它有两点令人印象深刻：一是 ASML与德国光学公司蔡司合作研发的镜片，若将镜片放大到与整个德国同等大小，整个镜面的误差不会超过1公厘；二是EUV的精准度之高，相当于从房屋发射雷射光束，并在月球上打乒乓球。

荷兰政府周三表示，将从4月1日起扩大对先进半导体设备的出口管制。晶片制造设备供应商艾司摩尔 (ASML)说，预计不会影响公司业务。 在美国的管制中国出口压力下，荷兰在2023年首次导入半导体设备出口的国家许可证要求，随后数次扩大该要求范围。

也就是现在，大名鼎鼎的ASML。 今年，ASML的High NA EUV光刻机成为设备新晋“顶流”。其数值孔径（NA）从之前标准 EUV 光刻机的 0.33 提升到了 0.55 ...

最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得 ASML 的 EUV 光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。然而，他随后指出，只需要一家中国公司成功开发出国产EUV光刻机，那么“芯片战争就会结束”。