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电子工程专辑
13 天
上海雷卯电子:Trench工艺和平面工艺MOS的区别
(4)制造复杂度。Trench工艺MOSFET的制造过程相对复杂,包括沟槽的刻蚀、填充等步骤,增加了制造成本。平面工艺MOSFET制造工艺成熟:PLANAR平面工艺MOSFET是最早的MOSFET制造工艺之一,经过多年的发展和改进,制造工艺已经非常成熟。相关设备和技术已经得到广泛 ...
音响网
4 年
惠州市嘉圣德电子有限公司
GoldPlanar金平面的起源可以追溯到2006年,当时创始人材料学博士何向明在浙江大学博士后科研工作站从事材料研究,遇到了美国声学工程师帝洛 斯托普勒,他曾为NASA开发了专门的柔性电路材料。这项技术可用在HiFi音箱高音单元上, 如带式高音、气动式高音 ...
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