EUV光刻机也是历史上最复杂、最昂贵的机器之一。《芯片浪潮：纳米工艺背后的全球竞争》一书中有描述：一台EUV光刻机的零件超过10万个，重达180吨，需要用40个集装箱来运输，光刻机的安装调试都要超过一年时间。阿斯麦在刚开始时只能年产二三十台EUV光刻机，到目前也不过增加到四五十台。

独家供应的EUV光刻机，还是遇到了“麻烦”？ASML已经公开 ...

EUV光刻机产能不足，很大一部分原因是光学镜头的供货不足。蔡司公司是EUV光刻镜头的唯一供应商。电子束光刻采用电子源发出电子束而并非光源，因此电子束光刻技术解决的是光刻机对光学镜头的依赖。

在半导体应用领域，波长光电则已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

談到合作典範，可以借鏡ASML（艾司摩爾）、蔡司與台積電在EUV技術上的合作開發。當時ASML注資蔡司，讓蔡司有很強大的資金支援，開發出新世代的EUV曝光機，是很好的案例。

荷兰光刻机巨头ASML可是芯片制造业的扛把子，掌握着生产高端芯片的独门秘籍EUV光刻机，全球那些芯片巨头都得求着它供货。 这么一家金疙瘩，荷兰自然当宝贝一样捧着，但让人大跌眼镜的是，ASML居然要“离家出走”了。

智通财经APP获悉，方正证券发布研报称，2021-2023年全球光刻机市场规模约为145/164/244亿欧元。光刻机作为最尖端半导体设备品类，竞争格局呈现极高的集中度，且越高端的机型市场集中度越高。其本身是一项极其复杂的系统工程，光刻机的全产业链国产化是自主可控的必然结果，关注国产光刻机产业链。

作为荷兰科技产业的“支柱”，ASML之所以能成为全球半导体产业链不可或缺的一环，究其根本，它是目前唯一能生产EUV光刻机的厂商，无论台积电或者三星，这些顶尖芯片代工厂商基本都离不开ASML的设备支持。

众所周知，目前美国一直在打压中国的芯片产业，从逻辑芯片到NAND、DRAM存储芯片，再到AI芯片等等。

美国劳伦斯利弗摩国家实验室（LLNL）正在研发拍瓦 ...

美国研发新型激光技术。美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发了一种名为大孔径铥（BAT）激光器的技术，旨在为极紫外（EUV）光刻技术的进一步发展奠定基础。这种新型激光器的效率据称是目前ASML ...

据劳伦斯利弗莫尔国家实验室的研究团队介绍，相比现有EUV光刻系统所采用的CO2激光器，BAT 激光器可以将 EUV能源效率提高约 10 倍。这可能会助力未来“beyond EUV”光刻系统能够生产更小、更强大、制造速度更快、耗电量更少的芯片。